In-situ monitoring for liquid metal jetting using a millimeter-wave impedance diagnostic
Abstract This article presents a millimeter-wave diagnostic for the in-situ monitoring of liquid metal jetting additive manufacturing systems. The diagnostic leverages a T-junction waveguide device to monitor impedance changes due to jetted metal droplets in real time. An analytical formulation for...
Guardado en:
Autores principales: | , , , , , , , |
---|---|
Formato: | article |
Lenguaje: | EN |
Publicado: |
Nature Portfolio
2020
|
Materias: | |
Acceso en línea: | https://doaj.org/article/b44edb11975245e2a30ea41c1cf4e142 |
Etiquetas: |
Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
|
Sea el primero en dejar un comentario!