Selective etching of 10 MHz repetition rate fs-laser inscribed tracks in YAG

We investigated fs-laser structuring of YAG crystals at high writing velocities up to 100 mm/s using a commercial 10 MHz fs-laser system supplied by Coherent Inc. and selective etching of these structures for fabrication of ultrahigh aspect ratio microchannels. Usage of a diluted acid mixture of 22%...

Description complète

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Auteurs principaux: Hasse Kore, Kip Detlef, Kränkel Christian
Format: article
Langue:EN
Publié: EDP Sciences 2021
Sujets:
Accès en ligne:https://doaj.org/article/f67cc3a1209e49ce9e2888c6581c73a5
Tags: Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!