Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de v...
Guardado en:
| Autores principales: | , , , , , |
|---|---|
| Lenguaje: | Spanish / Castilian |
| Publicado: |
Universidad de Tarapacá.
2015
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://www.scielo.cl/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0718-33052015000100010 |
| Etiquetas: |
Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
|
Sea el primero en dejar un comentario!