Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes que lo constituyen: etapa de generación de v...
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| Auteurs principaux: | , , , , , |
|---|---|
| Langue: | Spanish / Castilian |
| Publié: |
Universidad de Tarapacá.
2015
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| Sujets: | |
| Accès en ligne: | http://www.scielo.cl/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0718-33052015000100010 |
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