Análisis Químico y Topográfico de la Superfície de Implantes Dentarios Mediante Espectroscopia de Fotoelectrones y Microscopía Electrónica de Barrido: Estudio Preliminar

El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de 3 marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados 6 implantes de titanio de los siguientes sistemas: SIN, P-I philosophy y...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Muñante-Cárdenas,Jose Luis, Landers,Richard
Lenguaje:	Spanish / Castilian
Publicado:	Universidad de La Frontera. Facultad de Medicina 2012
Materias:	implantes dentarios titanio superfície XPS
Acceso en línea:	http://www.scielo.cl/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0718-381X2012000300019
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spelling	oai:scielo:S0718-381X20120003000192013-06-03Análisis Químico y Topográfico de la Superfície de Implantes Dentarios Mediante Espectroscopia de Fotoelectrones y Microscopía Electrónica de Barrido: Estudio PreliminarMuñante-Cárdenas,Jose LuisLanders,Richard implantes dentarios titanio superfície XPS El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de 3 marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados 6 implantes de titanio de los siguientes sistemas: SIN, P-I philosophy y Neodent. Este material fue dividido en 3 grupos de 3 implantes cada uno. Para determinar la composición química de la superficie fue utilizada la técnica de Espectroscopia de Fotoelectrones Excitada por rayos-X (XPS), mientras que para caracterizar la topografía superficial fue utilizada Microscopia electrónica de barrido. Titanio, Carbono Silicio y Oxigeno fueron identificados en todas las muestras analizadas. Otros elementos contaminantes identificados fueron Silicio, Aluminio, azufre, plomo, Fósforo, Calcio, Sodio, Nitrógeno y Carbono. Fueron identificadas impurezas en la superficie de todos los implantes analizados. Consideramos necesarios otros estudios que relacionen permanentemente la presencia y concentración de estos elementos con el proceso de oseointegración.info:eu-repo/semantics/openAccessUniversidad de La Frontera. Facultad de MedicinaInternational journal of odontostomatology v.6 n.3 20122012-01-01text/htmlhttp://www.scielo.cl/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0718-381X2012000300019es10.4067/S0718-381X2012000300019
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description	El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de 3 marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados 6 implantes de titanio de los siguientes sistemas: SIN, P-I philosophy y Neodent. Este material fue dividido en 3 grupos de 3 implantes cada uno. Para determinar la composición química de la superficie fue utilizada la técnica de Espectroscopia de Fotoelectrones Excitada por rayos-X (XPS), mientras que para caracterizar la topografía superficial fue utilizada Microscopia electrónica de barrido. Titanio, Carbono Silicio y Oxigeno fueron identificados en todas las muestras analizadas. Otros elementos contaminantes identificados fueron Silicio, Aluminio, azufre, plomo, Fósforo, Calcio, Sodio, Nitrógeno y Carbono. Fueron identificadas impurezas en la superficie de todos los implantes analizados. Consideramos necesarios otros estudios que relacionen permanentemente la presencia y concentración de estos elementos con el proceso de oseointegración.
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Análisis Químico y Topográfico de la Superfície de Implantes Dentarios Mediante Espectroscopia de Fotoelectrones y Microscopía Electrónica de Barrido: Estudio Preliminar

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