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Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene
por
R. Lukose
,
M. Lisker
,
F. Akhtar
,
M
.
Fraschke
,
T. Grabolla
,
A. Mai
,
M. Lukosius
Publicado 2021
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Author Correction: Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene
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R. Lukose
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