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Ultrathin Sub-5-nm Hf₁₋<italic>ₓ</italic>Zr<italic>ₓ</italic>O₂ for a Stacked Gate-all-Around Nanowire Ferroelectric FET With Internal Metal Gate
por
Shen-Yang Lee
,
Chia-Chin Lee
,
Yi-Shan Kuo
,
Shou-Wei Li
,
Tien
-
Sheng
Chao
Publicado 2021
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