Kavaliauskas, Ž., Dovydaitis, V., Kėželis, R., Marcinauskas, L., Valinčius, V., Baltušnikas, A., . . . Čapas, V. (2021). Formation of Graphite-Copper/N-Silicon Schottky Photovoltaic Diodes Using Different Plasma Technologies. MDPI AG.
Cita Chicago Style (17a ed.)Kavaliauskas, Žydrūnas, Vilius Dovydaitis, Romualdas Kėželis, Liutauras Marcinauskas, Vitas Valinčius, Arūnas Baltušnikas, Aleksandras Iljinas, Giedrius Gecevičius, y Vytautas Čapas. Formation of Graphite-Copper/N-Silicon Schottky Photovoltaic Diodes Using Different Plasma Technologies. MDPI AG, 2021.
Cita MLA (8a ed.)Kavaliauskas, Žydrūnas, et al. Formation of Graphite-Copper/N-Silicon Schottky Photovoltaic Diodes Using Different Plasma Technologies. MDPI AG, 2021.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.