New technology of preparation of indium antimonide thin films onto dielectrical substrates and onto oxide silicon substrates

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Nikolskii, Iu., Grigorova, V., Ziuzin, S., Kot, I., Pleşakova, L.
Formato: article
Lenguaje:EN
Publicado: D.Ghitu Institute of Electronic Engineering and Nanotechnologies 2006
Materias:
Acceso en línea:https://doaj.org/article/87e47038853e4cfbbae0b9b22254decf
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