New technology of preparation of indium antimonide thin films onto dielectrical substrates and onto oxide silicon substrates
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|---|---|
| Format: | article |
| Langue: | EN |
| Publié: |
D.Ghitu Institute of Electronic Engineering and Nanotechnologies
2006
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| Sujets: | |
| Accès en ligne: | https://doaj.org/article/87e47038853e4cfbbae0b9b22254decf |
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