New technology of preparation of indium antimonide thin films onto dielectrical substrates and onto oxide silicon substrates

New technology of preparation of indium antimonide thin films onto dielectrical substrates and onto oxide silicon substrates

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Nikolskii, Iu., Grigorova, V., Ziuzin, S., Kot, I., Pleşakova, L.
Formato: article
Lenguaje:EN
Publicado: D.Ghitu Institute of Electronic Engineering and Nanotechnologies 2006
Materias:
Physics
QC1-999
Electronics
TK7800-8360
Acceso en línea:https://doaj.org/article/87e47038853e4cfbbae0b9b22254decf
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