Near-ideal van der Waals rectifiers based on all-two-dimensional Schottky junctions
Here, a defect healing method is used to tune the height and width of the Schottky barrier at the interface between 2D metals and 2D semiconductors, leading to the realization of van der Waals rectifiers with enhanced performance.
Enregistré dans:
Auteurs principaux: | Xiankun Zhang, Baishan Liu, Li Gao, Huihui Yu, Xiaozhi Liu, Junli Du, Jiankun Xiao, Yihe Liu, Lin Gu, Qingliang Liao, Zhuo Kang, Zheng Zhang, Yue Zhang |
---|---|
Format: | article |
Langue: | EN |
Publié: |
Nature Portfolio
2021
|
Sujets: | |
Accès en ligne: | https://doaj.org/article/c9a0fea19d904002a20ade4e1b3424d2 |
Tags: |
Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
Documents similaires
-
Van der Waals ferromagnetic Josephson junctions
par: Linfeng Ai, et autres
Publié: (2021) -
Van der Waals MoS2/VO2 heterostructure junction with tunable rectifier behavior and efficient photoresponse
par: Nicoló Oliva, et autres
Publié: (2017) -
Supercurrent in van der Waals Josephson junction
par: Naoto Yabuki, et autres
Publié: (2016) -
Van der Waals negative capacitance transistors
par: Xiaowei Wang, et autres
Publié: (2019) -
Multiferroicity in atomic van der Waals heterostructures
par: Cheng Gong, et autres
Publié: (2019)