Author Correction: Direct growth of orthorhombic Hf0.5Zr0.5O2 thin films for hysteresis-free MoS2 negative capacitance field-effect transistors
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| Autores principales: | , , , , , , , , , |
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| Formato: | article |
| Lenguaje: | EN |
| Publicado: |
Nature Portfolio
2021
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://doaj.org/article/d5cf3313bcad4fcf9509a27e8b2909b3 |
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