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Fabrication and Characterization of GaN-Based Fin-Channel Array Metal-Oxide-Semiconductor High-Electron Mobility Transistors With Recessed-Gate and Ga₂O₃ Gate Insulat...
par
Hsin-Ying Lee
,
Ting-Wei Chang
,
Edward Yi Chang
,
Niklas Rorsman
,
Ching-Ting Lee
Publié 2021
Sujets:
“
...
Ga
₂
O
₃
gate
insulator
layer
...
”
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1
Auteur
Ching-Ting Lee
1
Edward Yi Chang
1
Hsin-Ying Lee
1
Niklas Rorsman
1
Ting-Wei Chang
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