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1
Self-cleaning and surface chemical reactions during hafnium dioxide atomic layer deposition on indium arsenide
por
Rainer Timm
,
Ashley R. Head
,
Sofie Yngman
,
Johan V. Knutsson
,
Martin
Hjort
,
Sarah R. McKibbin
,
Andrea Troian
,
Olof Persson
,
Samuli Urpelainen
,
Jan Knudsen
,
Joachim Schnadt
,
Anders Mikkelsen
Publicado 2018
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