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    Identification of fragment ions produced by the decomposition of tetramethyltin and the production of low-energy Sn+ ion beam.
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    Low-energy Ar+ and N+ ion beam induced chemical vapor deposition using hexamethyldisilazane for the formation of nitrogen containing SiC and carbon containing SiN films.
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    Low-energy Ar+ and N+ ion beam induced chemical vapor deposition using hexamethyldisilazane for the formation of nitrogen containing SiC and carbon containing SiN films
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