Author Correction: Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene
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| Autores principales: | , , , , , , |
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| Formato: | article |
| Lenguaje: | EN |
| Publicado: |
Nature Portfolio
2021
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://doaj.org/article/4f9b79be76fe41669de01e71dbdb4648 |
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