Author Correction: Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene
Enregistré dans:
| Auteurs principaux: | , , , , , , |
|---|---|
| Format: | article |
| Langue: | EN |
| Publié: |
Nature Portfolio
2021
|
| Sujets: | |
| Accès en ligne: | https://doaj.org/article/4f9b79be76fe41669de01e71dbdb4648 |
| Tags: |
Ajouter un tag
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|
Soyez le premier à ajouter un commentaire!